一、线、线、线、线、真空使用单元及线、真空阀门及线、真空备品、备件、真空资料、线、真空丈量仪器、线、各类实验室查验测验仪器、测验技能设备、剖析仪器等。

  1、镀膜设备：真空镀膜机、真空蒸镀设备、光学镀膜机、溅射镀膜机、眼镜镀膜机、光纤镀膜、CVD设备、MOCVD设备、薄膜堆积设备、玻璃镀膜设备、磁控镀膜、蒸镀设备、离子束堆积设备、电子枪、离子源、蒸腾堆积掩膜、镀膜机、镀膜夹具等镀膜设备及镀膜相关设备；

  2、加热类：电阻加热、电子束加热、高频感应加热、电弧加热、激光加热等加热技能设备；

  3、靶材：溅射靶材、金属靶材、合金靶材、非金属靶材、陶瓷靶材、化合物靶材、单晶靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、蒸腾资料、特种靶材等各类靶材；

  4、设备及仪器：熔炼技能、喷涂技能、焊接技能、剖析测验仪器、检测验验设备、镀膜测验等；

  1、氧化物：一氧化硅SiO,二氧化硅SiO2,二氧化钛TiO2,二氧化锆ZrO2,二氧化铪HfO2,一氧化钛TiO,五氧化三钛Ti3O5，五氧化二铌Nb2O5，五氧化二钽Ta2O5,氧化钇Y2O3等高纯氧化物镀膜资料；

  2、氟化物：氟化钕NbF3,氟化钡BaF2，氟化铈CeF3，氟化镁MgF2，氟化镧LaF3，氟化钇YF3，氟化镱YbF3，氟化铒ErF3等高纯氟化物；

  3、其它化合物：硫化锌ZnS，硒化锌ZnSe，氮化钛TiN，碳化硅SiC，钛酸镧LaTiO3，钛酸钡BaTiO3，钛酸锶SrTiO3，钛酸镨PrTiO3，硫化镉CdS等线、金属镀膜资料：高纯铝Al，高纯铜Cu，高纯钛Ti，高纯硅Si，高纯金Au，高纯银Ag，高纯铟In，高纯镁Mg，高纯锌Zn，高纯铂Pt，高纯锗Ge，高纯镍Ni,高纯钽TA，金锗合金AuGe，金镍合金AuNi，镍铬合金NiCr，钛铝合金TiAl，铜铟镓合金CuInGa，铜铟镓硒合金CuInGaSe，锌铝合金ZnAl，铝硅合金AlSi等金属镀膜资料；